一、設備用途：
氣相滲透爐主要用於CVD和CVI工藝製備C/C、C/SIC及SIC/SIC複合材料，力學性能優異，
適用於航空航天級別碳基及SIC基複合材料，該設備可用於縱項目SIC包殼管的研製。
C/C複合材料，C/SIC陶瓷基複合材料，熱解碳塗層，SIC塗層，以及SIC/SIC複合材料製備。
二、設備特點：
1 立式結構，雙層水冷結構設計，爐殼用耐腐蝕材料製成。
2 獨特的內罩進排氣結構，熱場溫度均勻性好。
3 氣氛控制精確，真空系統配有過濾器，可選配尾氣處理系統。
4 控制系統採用PLC加觸摸屏控制方式，操作方便，簡單。
5 主要電器元件採用施耐德及歐姆龍品牌，性能穩定、可靠。
三、主要技術參數：
| No. | 型號 | 工作區尺寸 | 高溫度 | 真空度 | 壓升率 | 溫度均勻性 | 功率 |
| 1 | ZT-60-13 | Ø300X600mm | 1300℃ | 1-100Pa | 0.67(Pa/h) | ±10℃ | 48KW |
| 2 | ZT-145-13 | Ø500X1500mm | 1300℃ | 1-100Pa | 0.67(Pa/h) | ±10℃ | 135KW |
| 3 | ZT-160-13 | Ø600X1500mm | 1300℃ | 1-100Pa | 0.67(Pa/h) | ±10℃ | 160KW |
| 4 | ZT-240-13 | Ø800X1500mm | 1300℃ | 1-100Pa | 0.67(Pa/h) | ±10℃ | 240 |
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